壓力性能是高壓光學(xué)腔的核心指標(biāo)，涵蓋壓力范圍與穩(wěn)定性兩大要素。不同應(yīng)用場(chǎng)景對(duì)壓力需求差異顯著，材料相變研究可能需超高壓環(huán)境，而氣體光譜分析則側(cè)重中低壓精度，選購(gòu)時(shí)需匹配實(shí)驗(yàn)的壓力閾值，例如多通腔系統(tǒng)中10bar壓強(qiáng)可實(shí)現(xiàn)優(yōu)質(zhì)脈沖壓縮效果。壓力穩(wěn)定性更為關(guān)鍵，波動(dòng)過(guò)大會(huì)導(dǎo)致光譜信號(hào)漂移，優(yōu)質(zhì)系統(tǒng)需將長(zhǎng)期壓力波動(dòng)控制在0.1%以內(nèi)，這依賴金剛石壓砧或高壓釜的精密設(shè)計(jì)。

 

　　光學(xué)窗口特性直接影響測(cè)量精度，材料選擇與光學(xué)性能是核心。窗口材料需兼具高壓抗性與透光性，金剛石適用于廣譜測(cè)量，氟化鎂可覆蓋真空紫外至紅外波段，硒化鋅則在中遠(yuǎn)紅外區(qū)域表現(xiàn)優(yōu)異。透光帶寬需匹配實(shí)驗(yàn)波長(zhǎng)，例如深紫外應(yīng)用需選擇專用級(jí)氟化鈣窗口，而紅外光譜測(cè)量則優(yōu)先硒化鋅材質(zhì)。此外，抗反射涂層能降低反射損耗，提升信號(hào)強(qiáng)度，對(duì)弱光探測(cè)尤為重要。

 

　　諧振腔品質(zhì)與模式控制決定光學(xué)性能上限。品質(zhì)因子（Q值）反映能量損耗速率，高Q值腔體能增強(qiáng)共振信號(hào)，適用于高精度光譜分析。腔形設(shè)計(jì)需結(jié)合穩(wěn)定性需求，平凹腔結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單且穩(wěn)定性高，雙凹腔則適合高功率場(chǎng)景。模式匹配程度影響能量轉(zhuǎn)換效率，需確保輸入光束與腔內(nèi)光場(chǎng)的頻率、相位匹配，避免雜散光干擾。

 

　　環(huán)境適配性與結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)關(guān)乎裝置實(shí)用性。溫度控制模塊需滿足寬溫域需求，部分實(shí)驗(yàn)需在-196℃至1000℃范圍內(nèi)精確控溫，溫差波動(dòng)應(yīng)小于0.5℃。樣品室尺寸需適配樣品規(guī)格，且密封結(jié)構(gòu)需兼顧高壓抗性與裝卸便利性，鈦合金夾緊設(shè)計(jì)可提升特殊條件下的結(jié)構(gòu)穩(wěn)定性。